Münch Chemie International
Der Trennmittelspezialist

Trennmittel MK-122/5 LS

Anwendung: Trennmittel

Trennmittel MK-122/5 LS ist ein gebrauchsfertiges, lösungsmittelbasiertes Trennmittel, das in der
Form einen geschlossenen Film bildet.

Der Film ist nach der Aushärtung sehr widerstandsfähig (auch beim Einsatz abrasiver Materialien) und temperaturstabil bis über 400°C. Trennmittel MK-122/5 LS besitzt eine starke chemische Bindung zu fast allen Formmaterialien und ermöglicht sehr hohe Entformungsstückzahlen pro Trennmittelauftrag.

Trennmittel MK-122/5 LS überträgt sich nicht auf die gefertigten Teile, so dass ein Lackieren, Verkleben etc. ohne Nachbehandlung möglich ist. Die Verschmutzung der Formen durch Ablagerungen wie Pigmente, Alterungsschutzmittel, Harzreste usw. wird wesentlich verringert.

Trennmittel MK-122/5 LS eignet sich als Trennmittel bei der Kautschukverarbeitung für alle
Elastomer-Typen außer Silikonkautschuk.

Eigenschaften

  • Lösungsmittelbasiertes Produkt
  • Anwendungsfertiges Produkt
  • Semipermanentes Produkt: mehrfache Entformungen pro Auftrag möglich
  • Kein Übertrag auf die gefertigten Teile
  • Geeignet für die Verarbeitung abrasiver Medien
  • Temperaturbeständig bis 400°C
  • Weiterverarbeitung der gefertigten Teile ohne Vorbehandlung
  • Minimiert Rückstände auf der Formoberfläche

Materialeignung

  • Alle Elastomertypen außer Silikonkautschuk

Dokumente

Verpackungseinheiten

Karton
je 12x 0,4 ltr. Sprühdose

Dieses Produkt wird eingesetzt in folgenden Einsatzumfeld

Produkte

  • Gummi

Branchenlösungen

  • Automobilzulieferer
  • Gummi- Metallverbindung

Unsere Kombinationsempfehlungen und passendes Zubehör

Reiniger Mikon® R-52
Lösemittelhaltiger Hochleistungsreiniger zur Behandlung von Metallformen. Hoher Wirkungsgrad schon bei Raumtemperatur.
Batch-Off Trennmittel RP-10/1
Pigmentiertes Batch-Off-Trennmittel mit hoher Netzwirkung und optimierter Trennwirkung.
Batch-Off Trennmittel RP-6
FDA-zugelassenes Batch-Off-Trennmittel mit hoher Netzwirkung und optimierter Trennwirkung.